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    日本大冢電子nanoSAQLA納米粒度測定儀的技術(shù)解析

    發(fā)布時(shí)間： 2025-07-14　　點(diǎn)擊次數(shù)： 111次
    　　日本大冢電子(Otsuka)推出的nanoSAQLA納米粒度測定儀是一種基于動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)的粒度測量裝置。該設(shè)備能夠測量粒徑范圍在0.6nm至10μm之間的顆粒近年來，適用于從稀薄到濃厚系的廣泛濃度范圍的多檢體測定貢獻。nanoSAQLA采用了新的光學(xué)系統(tǒng)促進進步，實(shí)現(xiàn)了實(shí)驗(yàn)室所需的輕量化體系、小型化結構不合理，并且標(biāo)準(zhǔn)測量時(shí)間為1分鐘數字技術，提供了高速測定的能力推動。此外結構，該設(shè)備是非浸泡型設(shè)計(jì)管理，不受接觸器影響，無需自動(dòng)取樣器去完善，標(biāo)配“5檢體連續(xù)測量”功能橋梁作用，為用戶帶來了極大的便利。
     
    　　nanoSAQLA的光源采用高功率半導(dǎo)體激光(660nm求索、70mW)讓人糾結，配備高感度APD檢測器，能夠連續(xù)測量最多5個(gè)樣品。測量范圍為0.6nm至10μm基石之一，濃度范圍為0.00001%至40%聯動，溫度范圍為0至90℃，并具備溫度梯度功能共同努力。樣品容量適用于四面透光比色皿(1.2mL以上)和微量比色皿(20μL以上)行業內卷，設(shè)備的尺寸為W240 X D480 X H375 mm，重量約為18 kg逐漸完善。
     
    　　軟件方面參與能力，nanoSAQLA配備了平均粒徑分析(累積量法)、粒徑分布解析等功能是目前主流，支持Marquardt法充分發揮、Contin法、NNLS/Unimodal法等多種分析方法充分發揮。此外選擇適用，設(shè)備還具備粒度分布重疊、逆相關(guān)數(shù)殘差Plot設計、粒徑監(jiān)測等功能業務指導，粒徑表示范圍為0.1至106 nm。設(shè)備還符合21 CFR Part11標(biāo)準(zhǔn)就此掀開，可選配微量樣品池(20μL起對(duì)應(yīng))和熒光濾光片長足發展。
     
    　　nanoSAQLA納米粒度測定儀以其高精度、高效率和靈活性信息化技術，在科研和工業(yè)應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用發揮作用，是實(shí)現(xiàn)精確粒度控制的理想選擇良好。
     
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