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日本大冢電子nanoSAQLA納米粒度測定儀的技術解析

發(fā)布時間： 2025-07-14　　點擊次數(shù)： 19次

　　日本大冢電子(Otsuka)推出的nanoSAQLA納米粒度測定儀是一種基于動態(tài)光散射(DLS)技術的粒度測量裝置激發創作。該設備能夠測量粒徑范圍在0.6nm至10μm之間的顆粒表現明顯更佳，適用于從稀薄到濃厚系的廣泛濃度范圍的多檢體測定。nanoSAQLA采用了新的光學系統(tǒng)，實現(xiàn)了實驗室所需的輕量化、小型化狀態，并且標準測量時間為1分鐘充足，提供了高速測定的能力。此外更優美，該設備是非浸泡型設計需求，不受接觸器影響，無需自動取樣器更為一致，標配“5檢體連續(xù)測量”功能各方面，為用戶帶來了極大的便利。

　　nanoSAQLA的光源采用高功率半導體激光(660nm更適合、70mW)技術交流，配備高感度APD檢測器，能夠連續(xù)測量最多5個樣品引人註目。測量范圍為0.6nm至10μm關註，濃度范圍為0.00001%至40%，溫度范圍為0至90℃拓展，并具備溫度梯度功能提供堅實支撐。樣品容量適用于四面透光比色皿(1.2mL以上)和微量比色皿(20μL以上)，設備的尺寸為W240 X D480 X H375 mm，重量約為18 kg創造更多。

　　軟件方面，nanoSAQLA配備了平均粒徑分析(累積量法)好宣講、粒徑分布解析等功能連日來，支持Marquardt法、Contin法不斷進步、NNLS/Unimodal法等多種分析方法信息化技術。此外實現了超越，設備還具備粒度分布重疊、逆相關數(shù)殘差Plot開拓創新、粒徑監(jiān)測等功能確定性，粒徑表示范圍為0.1至106 nm。設備還符合21 CFR Part11標準去完善，可選配微量樣品池(20μL起對應)和熒光濾光片意料之外。

　　nanoSAQLA納米粒度測定儀以其高精度、高效率和靈活性設備，在科研和工業(yè)應用中發(fā)揮著重要作用橋梁作用，是實現(xiàn)精確粒度控制的理想選擇。

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