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日本大冢電子SF-3晶圓膜厚儀的技術(shù)解析

發(fā)布時(shí)間： 2025-07-14　　點(diǎn)擊次數(shù)： 16次

　　日本大冢電子(Otsuka)生產(chǎn)的SF-3小型晶圓膜厚儀是一種專為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域設(shè)計(jì)的精密測(cè)量設(shè)備高品質。該設(shè)備采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高精度的膜厚測(cè)量，具有非接觸式、非破壞性的特點(diǎn)提高鍛煉，適用于硅晶圓建設應用、玻璃等基材的厚度測(cè)量要落實好。SF-3膜厚儀的測(cè)量范圍廣泛，從0.1 μm到1600 μm取得顯著成效，能夠滿足不同厚度測(cè)量需求處理方法。其測(cè)量精度高，重復(fù)精度達(dá)到0.001%以下要求，測(cè)量時(shí)間僅需10毫秒，展現(xiàn)了測(cè)量效率和準(zhǔn)確性。

　　SF-3膜厚儀的設(shè)計(jì)緊湊開放以來，體積小等形式，安裝簡(jiǎn)便，非常適合集成到生產(chǎn)線中組合運用。它能夠?qū)崿F(xiàn)長(zhǎng)距離工作(Working Distance)的特點，從3 mm到200 mm，使得在不同生產(chǎn)環(huán)境中的安裝和使用更加靈活研究與應用。此外適應性，該設(shè)備還支持多層厚度測(cè)量，即使在短暫貼合的情況下也能準(zhǔn)確測(cè)量各層厚度有效保障，這對(duì)于3D IC堆疊等先進(jìn)封裝技術(shù)尤為重要激發創作。

　　SF-3膜厚儀還具備高速測(cè)量能力，最快可達(dá)5kHz傳遞，能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)控研磨厚度充分，這對(duì)于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義。設(shè)備通過LAN接口實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制的發生，方便與Host系統(tǒng)連接，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)流程進一步完善。

　　總的來說相結合，SF-3小型晶圓膜厚儀以其高精度、高效率和靈活性影響，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用相關性，是實(shí)現(xiàn)精確膜厚控制的理想選擇真諦所在。

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