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X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

更新日期：2024-05-14

訪問量：1065

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址：

簡要描述：
X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER
FISCHERSCOPE ® X 射線 XDV ® -μ 晶圓
它是一種高性能熒光X射線測量設(shè)備，配備了多毛細管光學元件用的舒心，專門設(shè)計用于自動測量晶片的膜厚和材料分析多樣性。

X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

日本進口fischerX射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

特征

  • 專門設(shè)計的自動晶圓薄膜厚度測量和材料分析模型
  • 配備創(chuàng)新的多毛細管透鏡調解製度，可以在非常小的測量點中獲得較大的激發(fā)強度情況。

主要規(guī)格

它是一種高性能熒光X射線測量設(shè)備機遇與挑戰，配備多毛細管透鏡保供，專門設(shè)計用于自動測量晶片的膜厚和材料分析能力建設。

模型XDV-μ晶圓
測量元件范圍鋁 (13) -U (92)
X射線探測器硅漂移探測器 (SDD)
X射線管微調(diào)焦管
初級過濾器4種（可切換）
X射線光學系統(tǒng)多毛細管透鏡 Φ20µm（選項 Φ10µm）
車身尺寸680 x 900 x 690mm（寬x深x高）
晶圓尺寸兼容 6、8 和 12 英寸
能量消耗高達 120W

主要應(yīng)用

  • 電子行業(yè)技術創新、半導體行業(yè)等的晶圓測量（可測量Φ300mm的晶圓）
  • 分析 0.1 µm 以下的 Au 和 Pd 薄膜涂層
  • 質(zhì)量控制中的自動測量等
  • 多層涂層的測量

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