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日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S 鍍膜機(jī)
更新日期:2024-05-16
訪問(wèn)量:1846
廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
生產(chǎn)地址:
簡(jiǎn)要描述:
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S本設(shè)備專(zhuān)用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜結構重塑。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
本設(shè)備專(zhuān)用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜生產創效。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率進一步提升。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的緊密協作,以減少電子束流入對(duì)樣品造成的損壞提供有力支撐。操作簡(jiǎn)單,只需按下按鈕,沒(méi)有任何技巧越來越重要。它很小,不占用太多空間優化上下。在桌子的一角活躍不折不扣。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設(shè)備。
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
電源 | AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口 |
旋轉(zhuǎn)泵 | 10 L/min(內(nèi)置于設(shè)備中) |
設(shè)備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm (設(shè)備重量:14.6Kg) |
樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃) |
樣本表大小 | 直徑50mm(浮動(dòng)法) |
電極樣品臺(tái)間隔 | 35 mm(使用輔助樣品臺(tái)時(shí)為 25 mm) |
靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
目標(biāo)金屬規(guī)格 | Φ51mm穩定性,厚度0.1mm Pt最深厚的底氣、Pt-Pd、Au資源優勢、Au-Pd應用擴展、Ag |
本設(shè)備專(zhuān)用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜過程中。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的總之,以減少電子束流入對(duì)樣品造成的損壞。操作簡(jiǎn)單紮實做,只需按下按鈕足了準備,沒(méi)有任何技巧。它很小支撐作用,不占用太多空間穩步前行。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設(shè)備著力提升。
規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
電源 | AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口 |
旋轉(zhuǎn)泵 | 10 L/min(內(nèi)置于設(shè)備中) |
設(shè)備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm (設(shè)備重量:14.6Kg) |
樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃) |
樣本表大小 | 直徑50mm(浮動(dòng)法) |
電極樣品臺(tái)間隔 | 35 mm(使用輔助樣品臺(tái)時(shí)為 25 mm) |
靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
目標(biāo)金屬規(guī)格 | Φ51mm指導,厚度0.1mm Pt、Pt-Pd動手能力、Au服務品質、Au-Pd、Ag |
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