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日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW 光學(xué)測(cè)量?jī)x
更新日期：2024-05-16
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廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
生產(chǎn)地址：
日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW
光學(xué)分辨率1.8μm設計，速度檢測(cè)醒悟！
用于基板和金屬表面的缺陷檢測(cè)構建！
概述
使用高分辨率相機(jī)和高精度 XY 載物臺(tái)的二維檢測(cè)系統(tǒng)規模。
適用于光學(xué)薄膜逐步顯現、片材、觸控面板等表面劃痕、異物近年來、缺陷的檢測(cè)。
憑借 1.8 μm 的光學(xué)分辨率事關全面，可以進(jìn)行超高清檢測(cè)交流等。
它還可以測(cè)量尺寸和檢查二維沖壓產(chǎn)品。
特征
自動(dòng)保存檢測(cè)數(shù)據(jù)和圖像
攝像頭像素：900萬(wàn)像素
高光學(xué)分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細(xì)的檢測(cè)點(diǎn)發展目標奮鬥。
適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細(xì)布線是否有斷線和短路自動化裝置。
用法
用于檢查觸摸面板和異物等缺陷！
觸控面板周邊電極缺陷檢測(cè)
板材表面劃傷和異物檢查
基板缺陷檢查
系統(tǒng)配置
日本cew光學(xué)微缺陷檢測(cè)設(shè)備CEW
光學(xué)分辨率1.8μm規劃，速度檢測(cè)關規定！
用于基板和金屬表面的缺陷檢測(cè)！
概述
使用高分辨率相機(jī)和高精度 XY 載物臺(tái)的二維檢測(cè)系統(tǒng)應用前景。
適用于光學(xué)薄膜指導、片材、觸控面板等表面劃痕兩個角度入手、異物關註點、缺陷的檢測(cè)。
憑借 1.8 μm 的光學(xué)分辨率進入當下，可以進(jìn)行超高清檢測(cè)建強保護。
它還可以測(cè)量尺寸和檢查二維沖壓產(chǎn)品。
特征
自動(dòng)保存檢測(cè)數(shù)據(jù)和圖像
攝像頭像素：900萬(wàn)像素
高光學(xué)分辨率(1.8 μm) 可以清晰地看到精細(xì)的檢測(cè)點(diǎn)首次。
適合檢查觸摸面板的外圍電極和印刷電路板上的精細(xì)布線是否有斷線和短路流動性。
用法
用于檢查觸摸面板和異物等缺陷！
觸控面板周邊電極缺陷檢測(cè)
板材表面劃傷和異物檢查
基板缺陷檢查
