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日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W

日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W

更新日期:2024-05-12

訪問量:1419

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
與SEM和測針型輪廓儀不同,無需接觸即可進行測量在此基礎上。
-與橢偏儀相比規定,價格低廉且易于使用支撐作用。

日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W

日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W

 

 

評估裝置(膜厚計)

建議將反射光譜膜厚計用于硬涂層等膜厚測量應(yīng)用大局。

評估裝置(膜厚計)

[機理]當(dāng)
用光照射樣品時結果,取決于膜的厚度,它顯示出*的光譜特性。膜表面上反射的光與穿過膜并在基板表面上反射的光相互干擾服務機製。當(dāng)光的相位匹配時,強度增加不負眾望,而當(dāng)光的相位偏移時共同學習,強度降低交流研討。反射法是通過分析該光譜來測量膜厚的方法推動並實現。

[優(yōu)點]-
與SEM和測針型輪廓儀不同,無需接觸即可進行測量順滑地配合。
-與橢偏儀相比更加完善,價格低廉且易于使用。

將來也可以將其安裝在量產(chǎn)設(shè)備中共同努力。

模型AFW-100W
一般膜厚
設(shè)備配置單元本體保持競爭優勢,測量架,2分支光纖(1.5m)發展邏輯,PC
測量波長范圍380-1050納米
膜厚測量范圍100nm?1μm(曲線擬合法)
1μm至60μm(FFT)
測量重現(xiàn)性0.2%-1%(取決于膠片質(zhì)量)
測量光斑直徑約7mm
光源12V-50W鹵素?zé)?/font>
測量理論曲線擬合法/ FFT法
外形尺寸(mm)尺寸支架:W150 x D150 x H115
機身:W230 x D230 x H135
大概重量5.5kg *不包括PC
公用事業(yè)AC100V 50/60赫茲
轟天猛將鹵素?zé)?/font>
 

 

測量工作量

從傳感器正下方的深度尺寸(黃色箭頭):
可以測量126毫米8英寸晶圓方案。

 

顯微分光膜測厚儀

通過使用顯微鏡追求卓越,可以測量過去無法測量的具有不規(guī)則性的電子元件和曲面透鏡。

它測量相對于透鏡曲率的微小區(qū)域創新延展,并抑制散射光以進行測量性能。 它可以測量微小區(qū)域,以防止晶片圖案和電子元件的不平整長效機製,抑制散射光強化意識,并可以進行測量。
名稱顯微分光膜測厚儀
設(shè)備配置顯微鏡深入,機身合理需求,光纖(1m),PC
顯微鏡奧林巴斯金相顯微鏡
測量波長范圍380-700納米
膜厚測量范圍50nm-1.5μm(C / F)
1.5μm至50μm(FFT)
測量重現(xiàn)性0.2%-1%(取決于膠片質(zhì)量)
測量光斑直徑Φ6μm至Φ120μm
光源12V-100W鹵素?zé)?/font>
測量理論曲線擬合法/ FFT法
外形尺寸(mm)顯微鏡:W317.5 x D602 x H480
機身:W230 x D230 x H135
大概重量25kg *不包括PC
公用事業(yè)AC100V 50/60赫茲
轟天猛將鹵素?zé)?/font>

 

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