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    日本acti-ve臺式拋光機(jī)ACT-220AII：實(shí)驗(yàn)室高效拋光實(shí)用技術(shù)

    發(fā)布時(shí)間： 2025-09-23　　點(diǎn)擊次數(shù)： 30次
    在材料科學(xué)最為突出、半導(dǎo)體制造和光學(xué)研究等領(lǐng)域利用好，高精度的拋光工藝是確保實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)成功的關(guān)鍵因素之一業務指導。日本acti-ve推出的ACT-220AII臺式拋光機(jī)以其性能和廣泛的應(yīng)用，成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)的理想選擇便利性。

    突出特點(diǎn)

    • 高精度控制：ACT-220AII提供0-7000rpm的旋轉(zhuǎn)速度范圍，精度高達(dá)±1rpm，確保薄膜的均勻性示範推廣，滿足不同材料和工藝的需求。
    • 多段式程序控制：具備10步程序控制和100種模式記憶功能，可靈活設(shè)置不同工藝參數(shù)雙重提升，適應(yīng)多樣化的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)需求。
    • 安全保護(hù)：配備安全蓋事關全面，帶有磁性傳感器表現明顯更佳，當(dāng)安全蓋打開時(shí)，無法啟動程序技術節能，旋轉(zhuǎn)中打開安全蓋指導，機(jī)器將自動停止旋轉(zhuǎn)，確保操作安全國際要求。
    • 真空吸附：真空吸附功能可牢固固定基板流動性，防止在拋光過程中移位，提高拋光效果的穩(wěn)定性競爭激烈。
    • 緊湊設(shè)計(jì)：外形尺寸為W250×D330×H272mm持續創新，重量約18kg，占地面積小空白區，便于在實(shí)驗(yàn)室中靈活擺放協調機製。

    應(yīng)用領(lǐng)域

    • 半導(dǎo)體制造：用于半導(dǎo)體晶片的拋光，確保表面平整度和清潔度形勢，提高芯片的性能和可靠性實踐者。
    • 太陽能電池生產(chǎn)：在太陽能電池制造過程中，對硅片進(jìn)行拋光處理服務機製，提升光電轉(zhuǎn)換效率貢獻力量。
    • 光學(xué)透鏡加工：對光學(xué)透鏡進(jìn)行高精度拋光，提高透鏡的光學(xué)性能大幅拓展，減少光散射和反射發行速度。
    • 納米技術(shù)與生物醫(yī)學(xué)：在納米材料和生物醫(yī)學(xué)研究中，對樣品進(jìn)行精細(xì)拋光積極性，為后續(xù)的分析和實(shí)驗(yàn)提供高質(zhì)量的樣品奮勇向前。
    • 液晶顯示器制造：用于LCD面板的拋光，確保顯示效果的均勻性和清晰度實施體系。
    • 實(shí)驗(yàn)與研究：在高校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室中組建，用于各種材料的拋光實(shí)驗(yàn)，為科研工作提供有力支持效果較好。
    日本acti-ve臺式拋光機(jī)ACT-220AII以其高性能重要的意義、高精度和廣泛的應(yīng)用場景，成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中的設(shè)備等多個領域。無論是半導(dǎo)體制造再獲、光學(xué)加工還是納米技術(shù)研究產品和服務，ACT-220AII都能提供可靠的拋光解決方案，助力科研和生產(chǎn)的發(fā)展體驗區。


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