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    日本Tem-Tech半導(dǎo)體CMP漿料用壓力傳感器SE3000：高精度耐腐蝕

    發(fā)布時間： 2025-07-31　　點(diǎn)擊次數(shù)： 100次
    在半導(dǎo)體制造過程中，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝對壓力控制的精度和可靠性有著要求發展。日本Tem-Tech的SE3000壓力傳感器憑借其高精度高效、耐腐蝕的特性，成為CMP漿料壓力監(jiān)測的理想選擇。

    高精度測量

    SE3000壓力傳感器具備高精度的測量能力促進進步，其綜合精度可達(dá)±1%FS（滿量程）方式之一，能夠確保在CMP工藝中對漿料壓力的精確控制。這種高精度測量對于保證晶圓表面的平整度和拋光質(zhì)量至關(guān)重要體驗區。

    耐腐蝕設(shè)計

    該傳感器采用PFA（全氟烷氧基）一體成型的氣球結(jié)構(gòu)增多，接觸液部分未使用金屬或O形圈，因此非常適合強(qiáng)酸和強(qiáng)堿等腐蝕性流體的測量。這種設(shè)計不僅解決了傳統(tǒng)氣球結(jié)構(gòu)可能導(dǎo)致的污染和離子問題共享應用，還提高了傳感器在惡劣化學(xué)環(huán)境中的使用壽命生產能力。

    廣泛的測量范圍與靈活的輸出選項(xiàng)

    SE3000支持多種測量范圍，包括-0.1至1MPa技術創新，能夠滿足不同CMP工藝的壓力監(jiān)測需求處理方法。此外，該傳感器還提供多種輸出信號選項(xiàng)持續向好，如4～20mADC（2線式）習慣、0～5VDC、1～5VDC進展情況、0～10VDC（3線式）的積極性，方便與各種控制系統(tǒng)集成。

    可靠性與維護(hù)

    SE3000具備堅(jiān)固的雙層隔膜設(shè)計至關重要，能夠承受高達(dá)1MPa的壓力不久前。同時，傳感器配備了泄漏指示器提升行動，可及時通知用戶更換時間能力建設，確保設(shè)備的可靠運(yùn)行。

    應(yīng)用場景

    SE3000廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的CMP工藝研究進展，用于監(jiān)測漿料的壓力無障礙，確保拋光過程的穩(wěn)定性和一致性。其耐腐蝕特性和高精度測量能力使其成為半導(dǎo)體制造中的監(jiān)測設(shè)備快速融入。

    總結(jié)

    日本Tem-Tech的SE3000壓力傳感器以其高精度認為、耐腐蝕的特性，為半導(dǎo)體CMP工藝提供了可靠的解決方案增強。無論是應(yīng)對強(qiáng)酸強(qiáng)堿的化學(xué)環(huán)境重要意義，還是實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制，SE3000都能滿足用戶對高質(zhì)量半導(dǎo)體制造的需求置之不顧。


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