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    日本Sakigakes真空等離子體裝置YHS-R 薄膜形成預(yù)處理的高效解決方案

    發(fā)布時(shí)間： 2025-07-29　　點(diǎn)擊次數(shù)： 24次
    在薄膜制造領(lǐng)域，表面預(yù)處理是確保薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵步驟之一研究成果。日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置憑借其高效集成技術、緊湊的設(shè)計(jì)，為薄膜形成前的預(yù)處理提供了一種理想的解決方案。

    設(shè)備特點(diǎn)

    YHS-R是一款桌面型真空等離子體裝置，具有緊湊的結(jié)構(gòu)和便于操作的特點(diǎn)。其外形尺寸為220mm（寬）×250mm（深）×300mm（高），重量僅為6.8公斤去創新，非常適合實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。該設(shè)備的上下電極分別采用鋁和不銹鋼材料應用創新，能夠滿足多種材料的處理需求體系。

    薄膜形成預(yù)處理的應(yīng)用

    在薄膜形成前的預(yù)處理過程中，YHS-R能夠有效改善基材表面的清潔度和活性和諧共生，從而提高薄膜的附著力和均勻性提高。等離子體處理可以去除表面的有機(jī)污染物拓展，同時(shí)引入極性基團(tuán)自主研發，增強(qiáng)基材與薄膜之間的化學(xué)鍵合。這種預(yù)處理方式對于提高薄膜的性能和質(zhì)量至關(guān)重要探索。

    技術(shù)參數(shù)

    • 平臺尺寸：φ100mm
    • 電源：單相100V的特性，50/60Hz競爭力所在，5.0A
    • 可選支持：氣體引入、壓力調(diào)整高效、電源控制等（需額外付費(fèi)）

    操作與維護(hù)

    YHS-R的操作非常簡便先進的解決方案，配備放電定時(shí)器和復(fù)位開關(guān)，用戶可以根據(jù)需要靈活調(diào)整處理時(shí)間和操作模式領域。此外研究進展，設(shè)備的維護(hù)也非常方便，帶有AC100V插座，便于連接和使用構建。

    總結(jié)

    日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置以其高效、緊湊的設(shè)計(jì)和簡便的操作大幅增加，為薄膜形成前的預(yù)處理提供了一種理想的解決方案平臺建設。它不僅能夠顯著提高薄膜的附著力和均勻性，還能有效改善基材表面的清潔度和活性服務延伸。對于需要進(jìn)行薄膜制造的實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境來說新技術，YHS-R無疑是一個(gè)值得考慮的選擇。


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