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    MIKASA MS-B100小型旋轉(zhuǎn)涂布機：實驗室薄膜制備的得力助手

    發(fā)布時間： 2025-07-25　　點擊次數(shù)： 127次
    在半導(dǎo)體制造研究進展、微納加工以及材料科學(xué)等眾多領(lǐng)域積極，薄膜制備是關(guān)鍵的工藝環(huán)節(jié)之一深刻內涵。日本Mikasa公司推出的MS-B100小型旋轉(zhuǎn)涂布機憑借其精準(zhǔn)的控制和多樣化的功能，成為實驗室薄膜制備的可靠選擇。

    精準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)控制

    MS-B100采用AC伺服電機，具備無刷式設(shè)計，不僅避免了對無塵室的污染搶抓機遇，還減少了電機發(fā)熱，降低了因連續(xù)使用導(dǎo)致溫度上升對膜厚再現(xiàn)性的影響逐漸顯現。其旋轉(zhuǎn)速度范圍為50~7500rpm全會精神，精度可達±1rpm系統穩定性，能夠?qū)崿F(xiàn)從低速到高速的精確控制拓展基地。用戶可以任意設(shè)定旋轉(zhuǎn)速度和達到該速度的時間，從而輕松控制膜厚實力增強。

    靈活的程序設(shè)定

    該設(shè)備具備強大的程序功能體系流動性，最多可設(shè)置100階段程序，并能記憶10種模式信息化。這意味著用戶可以根據(jù)不同的實驗需求方式之一，預(yù)設(shè)多種涂布工藝參數(shù)，實現(xiàn)自動化操作新型儲能，提高實驗效率和重復(fù)性創新能力。

    適用多種基板

    MS-B100的最大基板尺寸為4英寸（75×75mm），能夠滿足實驗室中對較小尺寸基板的旋涂工藝需求範圍。無論是圓形晶圓還是方形基板求得平衡，都能穩(wěn)定吸附并進行均勻涂布。此外空間廣闊，設(shè)備還配備了數(shù)字式真空計至關重要，確保基板在涂布過程中牢牢吸附服務品質，避免因吸附力不足導(dǎo)致的涂布不均勻的發生。

    便捷的操作與安全設(shè)計

    MS-B100的操作界面簡潔直觀，用戶可以輕松進行參數(shù)設(shè)置和調(diào)整影響。設(shè)備還配備了安全裝置新的動力，如真空壓及蓋子聯(lián)鎖機構(gòu)，當(dāng)薄膜或晶圓容易破裂時發展契機，可以調(diào)整安全裝置的啟動壓力廣泛關註，確保實驗過程的安全。

    廣泛的應(yīng)用場景

    MS-B100在半導(dǎo)體制造中可用于光刻膠的均勻涂布流動性，為后續(xù)的光刻鍛造、蝕刻工藝提供高質(zhì)量的薄膜。在材料科學(xué)領(lǐng)域持續創新，可用于制備各種功能薄膜改善，如導(dǎo)電膜空白區、光學(xué)膜等。其低沸點溶劑涂布效果佳信息化，可有效減少光刻膠的使用量形勢。
    綜上所述，Mikasa MS-B100小型旋轉(zhuǎn)涂布機以其精準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)控制取得明顯成效、靈活的程序設(shè)定約定管轄、廣泛的基板適用性以及便捷安全的操作設(shè)計，為實驗室薄膜制備提供了高效創新的技術、可靠的解決方案大幅拓展，是科研人員在薄膜研究和開發(fā)過程中的工具。


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